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ASML:所有EUV客户均订购了下一代high-NA EUV曝光机,单价翻倍到122.5亿

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ASML正抓紧研制其下一代高数值孔径极紫外光(high-NA EUV)曝光机,在发布最新财报期间,AMSL透露,其存量EUV客户均订购了新一代装置。具体来说,在Intel和台积电之后,三星、SK海力士、美光等也下单高high-NA EUV曝光机了。

尽管目前包括台积电、英特尔、SK海力士、美光等国际半导体大厂都陆续下修资本支出,然而对于曝光机的钱还是不能省。

像是台积电之前在2022年技术论坛时,研发资深副总经理米玉杰就表示,台积电将于2024年引进高数值孔径极紫外光(high-NA EUV)曝光机,以协助客户推动创新;英特尔则在更早之前也宣称率先取得设备,预计2025年量产。

先前根据韩国媒体报导,三星集团将要下订10台的高阶制程需要用的ASML的极紫外光设备(EUV),预备未来在记忆体、晶圆代工产能可以扩大。毕竟景气不好是一时的,未来的半导体产业依然还是一场装备战。

而高NA EUV曝光机允许加工更精密的半导体晶片,生产效率也更高,它也是2nm及更先进制程的必要条件。

根据韩国装置商透露,现款EUV曝光机的订货价是2000~3000亿韩元(约合49~74亿元台币),而高NA EUV曝光机的报价翻倍到了5000亿韩元(约合122.5亿元台币)。

据了解,在三季度财报中,ASML完成58亿欧元的净销售额,毛利率51.8%、净利润17亿欧元,公司预计四季度净销售额在61~66亿欧元之间。

CEO Peter Wennink表示,其三季度预订产品的销售额达到创纪录的89亿欧元,其中EUV装置就有38亿欧元。

 

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